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            鉑悅儀器(上海)有限公司

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            反射膜厚儀

            更新時間:2020-08-12

            產品品牌:Semiconsoft

            產品產地:德國

            產品型號:MProbe系列

            產品描述:反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。

            產品概述

            當一束光入射到薄膜表面時,薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉,干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。

            反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。

            測量范圍: 1 nm - 1 mm

            波長范圍: 200 nm -8000 nm

            光斑尺寸:2mum -3 um

             

            產品特點:

            a. 高的測量精度:0.01nm或0.01%

            b. 準確度:1nm或0.2%

            c. 穩定性:0.02nm或0.02%

            d. 強大的軟件材料庫,包含500多種材料的光學常數

            e. 通過Modbus TCP或OPC協議,與其他設備聯用

            適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

            大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

             

            標準配置中包含:

            1. 主機(光譜儀,光源,電線)

            2. 反射光纖

            3. 樣品臺及光纖適配器

            4. TFCompanion軟件

            5. 校準套裝

            6. 測試樣品,200nm晶圓

            多種型號可選,每個型號對應不同的測量范圍:

            測量n和k值,其厚度范圍需在25納米和5微米之間

             

            廣泛的應用于各種工業生產及工藝監控中:

            半導體晶圓,薄膜太陽能電池,液晶平板,觸摸屛,光學鍍膜,聚合物薄膜等

            半導體制造:· 光刻膠          · 氧化物        · 氮化物

            光學鍍膜:· 硬涂層          · 抗反射涂層         · 濾波片

            生物醫學:· 聚對二甲苯         · 生物膜厚度         · 硝化纖維

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